中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢

最近关于芯片的话题十分火爆，并且引起了网友们关注，从而也有很多人将关注点延伸到有芯片的设备上，提到制造芯片的设备，那首先想到的就一定是光刻机，所以大家针对光刻机的关注度不小于芯片。
从源头延伸，谈光刻机那就一定要了解ASML（阿斯麦），以目前的情况来讲这家企业，称得上是全球光刻机生产企业的独角兽，最高端及最先进的光刻机，都是由这家公司生产的，像台积电、三星、英特尔甚至华为这样国内顶尖的科技企业，都对其有所依赖。
但是在大家将目光的关注点都放在光刻机上的时候，一定要了解在芯片制造过程当中中，其实还有一件设备起到关键性作用，这种设备和光刻机类似，那就是刻蚀机，可能很多人对光刻机的了解，要远远高于刻蚀机，但这并不足为奇。
不过这里要着重的说一点，虽然很多人在光刻机的研发进度上有唱衰的想法，但在刻蚀机的技术领域中，我们国家还是十分先进的，并且在2018年中微半导体，就已经实现量产5nm的刻蚀机，目前已交给台积电验证了。
如今，中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。
而明年，台积电将率先进入5纳米制程，已通过验证的国产5纳米刻蚀机，预计会获得比7纳米生产线更大的市场份额。
事实上目前中国能生产的光刻机的技术是90nm，还在攻关65nm，45nm等技术，离ASML的7nm量产技术，差得还太远，别说几十年，十年八年的差距还是有的。
ASML光刻机其实这两种设备的功能是完全不一样的，光刻机的意思是用光来刻录，即用光线在硅晶圆上刻画出电路图来。
而刻蚀机则相反，用光来把不需要的部分去掉，只保留划了电路图的部分。
为何国内能生产5nm的刻蚀机，却只能生产90nm的光刻机最主要的原因是光刻机技术更复杂，设备也更复杂，很多的零部件是美日韩垄断的，比如光源，国产的就完全技术不过关，跟不上。
甚至不仅是中国跟不上，之前和ASML一样辉煌的尼康、cannon都落后了，跟不上ASML的节奏了。